
Cartographie optique plein champ et sans contact pour la topographie des wafers et le contrôle des arches
Cet article de Photonics met en évidence comment la métrologie avancée se déplace vers la ligne de front de la fabrication de semi-conducteurs, permettant un contrôle plus serré des processus à des nœuds avancés. Il souligne l'importance des solutions de mesure en ligne de haute précision, telles que celles de Precitec 3D Metrology, pourassurer le rendement, la vitesse et la fiabilité dans les usines modernes. L'article complet (en anglais) peut être lu en cliquant sur ce lien.

Cartographie optique plein champ et sans contact pour la topographie des wafers et le contrôle des arches